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勻膠旋涂?jī)x工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上，勻膠機(jī)常用于各種溶膠凝膠（Sol-Gel）實(shí)驗(yàn)中的薄膜制作，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。可以設(shè)定多達(dá)20個(gè)程序段來存儲(chǔ)不同材...

熱重分析質(zhì)譜儀是將熱重分析耦合到Hiden質(zhì)譜儀上的一整套接口系統(tǒng)。能夠充分利用進(jìn)樣毛細(xì)管快速響應(yīng)和低死體積的優(yōu)點(diǎn)，配合上受歡迎的TGA設(shè)備。熱重分析質(zhì)譜儀用于測(cè)定材料在升溫過程中的重量變化（TGA）和吸放熱效應(yīng)（DSC/DTA），并能夠通...

濕法刻蝕系統(tǒng)用于先進(jìn)的無損兆聲清洗?？梢赃m用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達(dá)到優(yōu)化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。濕法刻蝕系統(tǒng)的技術(shù)確保了聲波能量均...

等離子清洗機(jī)是一種全新的高科技技術(shù)，通過對(duì)等離子體的應(yīng)用，來對(duì)對(duì)象進(jìn)行離子層次的清洗，達(dá)到常規(guī)清洗方式所無法達(dá)到的效果。等離子清洗機(jī)主要過程包括:首先將需要清洗的工件送入真空室固定,啟動(dòng)真空泵等裝置開始抽真空排氣到10Pa左右的真空度;接著...

光學(xué)接觸角測(cè)量?jī)x用于測(cè)試液體對(duì)固體的浸潤(rùn)性，即通過測(cè)量液體與固體間所形成接觸角的大小，計(jì)算其液體的自由能對(duì)固體的附著力、張力等指標(biāo)。方法是在一固體水平平面上滴一液滴，測(cè)試固體表面上的固—液—?dú)馊嘟唤琰c(diǎn)處，其氣—液界面和固—液界面兩切線把液...

可用在以下領(lǐng)域：農(nóng)業(yè)育種：（有相關(guān)的參考文獻(xiàn)）隨著低溫等離子技術(shù)的不斷成熟，近些年等離子體種子處理技術(shù)已開始應(yīng)用于農(nóng)業(yè)育種等方面，這在國內(nèi)外尚屬新的研究領(lǐng)域。該技術(shù)是通過利用等離子體沖刷種子表面，來增強(qiáng)種子的活力，從而使處理過后的農(nóng)作物從萌...

激光二極管測(cè)試儀器為一全新概念機(jī)種，專為激光半導(dǎo)體(LaserDiode)所打造設(shè)計(jì)，搭配自動(dòng)化特性檢測(cè)設(shè)計(jì)概念，可供不同的測(cè)試項(xiàng)目同時(shí)進(jìn)行檢測(cè)；搭配高容量的載具設(shè)計(jì)，可供多顆激光芯片(Chiplevel)進(jìn)行大量測(cè)試；另外藉由光學(xué)定位輔助...

濕法刻蝕系統(tǒng)提供了可控的化學(xué)試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進(jìn)一步加強(qiáng)。SWC和LSC具備對(duì)點(diǎn)試劑滴膠系統(tǒng)，可以較大程度節(jié)省化學(xué)試劑的用量的。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學(xué)試劑混合能力，提供了可控的化學(xué)試劑在整個(gè)基片上的分布。濕法...

勻膠旋涂?jī)x采用創(chuàng)新設(shè)計(jì)的托盤，無需真空泵或充氮?dú)?，就能達(dá)到很好的旋涂效果；內(nèi)置調(diào)整水平裝置，較大限度的保證旋涂均勻；可對(duì)大小不同規(guī)格的基片進(jìn)行旋涂。勻膠旋涂?jī)x隨意任意時(shí)間范圍的加減速，可重復(fù)性達(dá)到+/-0.5RPM，分辨率小于0.5RPM；...

將熱重分析質(zhì)譜儀與質(zhì)譜儀聯(lián)用可以檢測(cè)到非常低含量的雜質(zhì)，這一手段越來越受歡迎。通過熱重加熱樣品，樣品會(huì)因揮發(fā)物的存在或者燃燒分解出氣體，這些氣體被傳輸?shù)劫|(zhì)譜儀中，加以識(shí)別。由于質(zhì)譜可以檢測(cè)材料非常低的含量，TG-MS聯(lián)用成為質(zhì)量控制、產(chǎn)品安...