Harrick等離子清洗機(jī)是用于清洗實(shí)驗(yàn)室玻璃儀器和襯底表面的設(shè)備，其原理是利用等離子體對(duì)樣品表面進(jìn)行清洗和去除污染物。等離子體是物質(zhì)中電離產(chǎn)生的電子、離子和中性粒子的混合態(tài)，具有高能量和高反應(yīng)性。通過(guò)建立一個(gè)含有氣體的高頻電場(chǎng)，通過(guò)放電產(chǎn)生等離子體。
 

　　首先，樣品被放置在清洗室中，并用夾具固定。清洗室內(nèi)充滿了一種氣體，通常是氧氣或惰性氣體(如氮?dú)饣驓鍤?。當(dāng)高頻電源開(kāi)始工作時(shí)，產(chǎn)生的電場(chǎng)激活氣體分子，使其發(fā)生電離和激發(fā)。這些電子、離子和激發(fā)態(tài)分子以高速運(yùn)動(dòng)，并與樣品表面碰撞。
 

　　碰撞時(shí)，等離子體中的電子和離子會(huì)與樣品表面的污染物發(fā)生反應(yīng)，使其氧化或還原。這些氧化或還原反應(yīng)使污染物分解為無(wú)害的氣體或可溶的化合物。同時(shí)，等離子體中的能量也能夠去除表面的有機(jī)物和油脂。
 

　　此外，等離子清洗機(jī)還具有噴射清洗的功能。通過(guò)噴嘴，氣體被噴射到樣品表面，產(chǎn)生沖擊力和剝離作用。這樣，即使是較難附著的污垢也能夠被清洗掉。
 

　　隨著清洗的進(jìn)行，污染物和氣體會(huì)被抽出清洗室，以保持清洗室內(nèi)的氣體質(zhì)量。一般情況下，清洗室還配備了一個(gè)真空泵來(lái)協(xié)助抽出廢氣。

  

　　Harrick等離子清洗機(jī)的應(yīng)用領(lǐng)域包括但不限于：
 

　　1. 可用于清洗半導(dǎo)體材料表面，去除雜質(zhì)和有機(jī)物，提高半導(dǎo)體器件的性能和可靠性。
 

　　2. 可用于清洗薄膜涂層的基片，去除表面污染物和氧化物，提高薄膜的附著力和質(zhì)量。
 

　　3. 可用于清洗材料的表面，去除表面污染物和有機(jī)物，準(zhǔn)備干凈的材料樣品，用于研究材料的物理特性和化學(xué)反應(yīng)。
 

　　4. 可用于清洗生物材料的表面，去除細(xì)菌和污染物，準(zhǔn)備干凈的樣品，用于生物醫(yī)學(xué)研究和生物傳感器的制備。
 

　　5. 可用于清洗光學(xué)元件的表面，去除灰塵、臟物和有機(jī)污染物，提高光學(xué)元件的透明度和性能。