從簡(jiǎn)便性、多功能性、操作便捷性以及總體擁有成本來(lái)看，OAI邊緣去膠與泛光曝光系統(tǒng)無(wú)疑是目前的好解決方案。

OAI 2000 型可配置為邊緣膠珠曝光工具或泛光曝光系統(tǒng)；兩種配置均基于經(jīng)實(shí)踐驗(yàn)證、長(zhǎng)期可靠的平臺(tái)。OAI 2000SM 邊緣膠珠曝光系統(tǒng)采用標(biāo)準(zhǔn)蔭罩技術(shù)，為邊緣膠珠曝光提供具成本效益的方法。掩模與基板的更換可快速便捷完成，提升了這款大批量生產(chǎn)工具的多功能性與吞吐量。

2000 型配備紫外光源、控制光強(qiáng)的電源以及自動(dòng)基板傳輸子系統(tǒng)。紫外光源可提供均勻光強(qiáng)的光束，發(fā)散半角小于 2.0o 。電源功率可選 200 瓦至 5000 瓦。光強(qiáng)控制器傳感器直接與光源相連，實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)光強(qiáng)監(jiān)測(cè)。OAI 自動(dòng)基板傳輸系統(tǒng)由微處理器控制，可通過(guò)編程適配多種基板尺寸。蔭罩功能使用戶能夠在基板與掩模近距離貼合時(shí)，對(duì)基板正面進(jìn)行圖案加工。當(dāng)間距為 25 微米時(shí)，這些系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn) 6 微米的分辨率。
2000FL 泛光曝光系統(tǒng)用于在生產(chǎn)及研發(fā)場(chǎng)景中強(qiáng)化和 / 或優(yōu)化光刻工藝。應(yīng)用包括光刻膠穩(wěn)定化與改性、圖像反轉(zhuǎn)以及 PCM（工藝控制監(jiān)測(cè) ）工藝。