Large chamber tabletop plasma cleaner for R&D, low to mid volume production.

特    征:  

• 清洗方式：沉浸式等離子清洗可以高速刻蝕和表面改性；遠(yuǎn)程等離子體可以輕微的清除表面污染，如SEM、TEM樣品清洗；脈沖放電后產(chǎn)生等離子體的平均功率小于0.5watt，可以處理極精致樣品。
• 操作方法：自動(dòng)配方執(zhí)行；自動(dòng)作業(yè)順序執(zhí)行；亦可手動(dòng)操作。            
• 等離子傳感器：雙等離子強(qiáng)度傳感器（申請(qǐng)中）監(jiān)測(cè)現(xiàn)場(chǎng)等離子源和遠(yuǎn)程等離子源。等離子強(qiáng)度實(shí)時(shí)顯示在LCD觸摸屏上。            
• *進(jìn)工藝控制能力：壓力傳感器、溫度傳感器、MFC氣體流量計(jì)、雙等離子強(qiáng)度傳感器、自動(dòng)阻抗匹配。            
• 腔體材料：鋁法蘭，石英腔體
• 石英腔體尺寸：內(nèi)徑：160mm；外徑170mm；深度280mm            
• 樣品架：2mm厚高純度石英板            
• 射頻天線：外部射頻電極和天線設(shè)計(jì)減少了內(nèi)部金屬電極在等離子清洗機(jī)中發(fā)現(xiàn)的金屬濺射問題。            
• 射頻功率：13.56mhz高頻射頻電源，自動(dòng)原位等離子體源的阻抗匹配。射頻功率有兩種選擇：0-75watt和0-150watt。13.56MHz的射頻電源產(chǎn)生比兆聲電源產(chǎn)生高濃度等離子體。            
• 工藝氣路：高達(dá)三個(gè)質(zhì)量流量控制氣體輸入（0 ~ 100sccm）。一個(gè)額外的排氣口。¼英寸世偉洛克壓縮接頭連接器。            
• 用戶界面：7寸電阻式觸摸屏，觸摸的手指，沒有手寫筆的要求。            
• 軟件：總共20個(gè)可定制的配方。每個(gè)工藝步驟多達(dá)三個(gè)清理步驟。

典型的應(yīng)用：  

• 引線鍵合倒裝芯片底部填充，器件的封裝和解封            
• 光刻膠灰化、除渣、硅片清洗            
• PDMS/微流控/載玻片/芯片實(shí)驗(yàn)
• 去除的掃描電鏡/電鏡樣品上碳?xì)湮廴疚?/span>
• 改善金屬與金屬或復(fù)合材料的結(jié)合           
• 改善塑料、聚合物和復(fù)合材料的粘接